中国高端光刻机啥时候能研发出来？
2021-09-02
光刻机的制造看似是一台机器的制造，实际上涉及的领域非常多，也非常复杂，因此不是短时间内能进行量产的。
目前，我国的芯片生产技术和荷兰阿斯麦尔的差距大概是10年左右。我国光刻机研发主要是在沈阳光机所进行，其实我国在14年前就开始进行布局，目前已在很多重大技术上都有了相应的突破，国产光刻机在28nm以上制程的芯片生产领域还是值得期待的，五年内实现量产的可能性极高。
至于更先进制程，还需要长期的努力。
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