旋涂法的特点？
2021-03-17
旋涂是旋转涂抹法的简称，是有机发光二极管中常用的制备方法，主要有设备为匀胶机。旋涂法包括：配料，高速旋转，挥发成膜三个步骤，通过控制匀胶的时间，转速，滴液量以及所用溶液的浓度、粘度来控制成膜的厚度。
电子工业中，基片垂直于自身表面的轴旋转，同时把液态涂覆材料涂覆在基片上的工艺。
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